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TF-1200-PECVD等離子增強化學氣相沉積系統
TF-1200型等離子增強化學氣相沉積系統滑軌式設計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調裝置，可準確的控制反應腔體內部的氣體壓力，帶刻度的調節閥對于做低壓CVD非常簡單實用，工藝重復性好，對于石墨烯生長工藝非常合適，也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。 查看更多
熱搜關鍵詞：高剪切均質分散機,成套反應釜裝置,工業式超聲波清洗機,722紫外可見分光光度計
